| Laser specificatie |
|
| Laser type |
EF Technology |
| Golflengte |
1064 nm |
| Puls frequentie |
CW/ 0,1 - 100 kHz |
| Max. markeersnelheid |
10.000 mm.s-1 |
| Bedieningstemperatuur |
15° C - 40° C (condensatievrij) |
| Max. Puls energie |
0,25 mJ |
0,4 mJ |
| Max. Piek vermogen |
10 kW |
20 kW |
| Pulsduur |
25 ns (10 kHz) |
| Vermogenstabiliteit |
± 3% |
| Minimale markeergroote (spot) |
< 25 μm (100 mm lens) |
| Straal kwaliteit |
2 mm.mrad (M2<1,5) |
<3 mm.mrad (M2<1,5) |
| Bedienings electronica |
19" rack module (5U) |
| Constructie |
Optische gedeelte volledig gesloten conform IP67 |
| Aansluitgegevens |
|
| Input voltage |
enkele fase + aarde, 50 of 60 Hz; 100 - 240 V |
| Benodigd vermogen |
250W |
| Afmetingen (Laser / Controle unit) |
213x751x175 / 158x626x130 mm |
| Gewicht (Laser / Controle unit) |
18 Kg / 32 Kg |
: